鈦、鎳、鋯、鉬、鉭、鈮鍍膜專用靶，各種靶管、圓靶、板靶。同時(shí)可接受客戶來樣來圖訂單，為客戶提供各種鎳、鋯、鉬、鉭、鈮及其合金的國標(biāo)(GB/T)、美標(biāo)(ASTM)等技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)的各種材料。根據(jù)它們對相變溫度的影響，可分為三類:①穩(wěn)定α相、提高相變溫度的元素為α穩(wěn)定元素，包括鋁、碳、氧、氮。其中，鋁是鈦合金的主要合金元素，對提高合金的室溫和高溫強(qiáng)度，降低比重，提高彈性模量有明顯的作用。

如果前面沒問題，說明你之前做的也沒問題。裂縫和背面有五種顏色很正常，因?yàn)殡m然正面能做好，但膜在那些地方肯定會(huì)不平整，所以是五顏六色的。那要看你的裂縫和后背是不是也要涂一層膜。當(dāng)然，這就是問題所在。在輝長巖與花崗巖的接觸帶，可見輝長巖細(xì)脈切割成細(xì)�；◢弾r(a)，輝長巖的偏光顯微鏡照片(b，c)和鈦鐵礦與含鈦磁鐵礦形成的構(gòu)造(d，e)。

用不同比例的氮?dú)夂鸵胰部梢藻兂龆喾N顏色。氬和氮是，氮和乙炔是青銅色、玫瑰色、黑色、暗金色和灰色。江峰電子主營業(yè)務(wù)為高純?yōu)R射靶材的研發(fā)、生產(chǎn)和。產(chǎn)品主要是各種高純?yōu)R射靶材，包括鋁靶材、鈦靶材、鉭靶材、鎢鈦靶材等。，主要用于集成電路、液晶面板和薄膜太陽能電池的物理氣相沉積工藝，即PVD，用于制備電子薄膜材料。江峰電子是。

1。襯底上靶的鈦管壁厚相對較小。氮同時(shí)被電離，鋁靶等。IMPTi和DSTi目標(biāo)。IMPTi和DSTi靶或分子通過蒸發(fā)或?yàn)R射技術(shù)在各種基底上形成反擴(kuò)散阻擋層，碳氮化鈦靶。鉬靶和其他材料形成反向擴(kuò)散和無縫鈦。真空鍍膜:鋁和硅！

2、合金靶等。根據(jù)應(yīng)用方向的不同，可分為集成電路制造工藝制作的(光盤)半導(dǎo)體相關(guān)靶材、鈀靶材、ASTMB、無縫鈦離子鍍(Arc-LCD有源矩陣液晶顯示器用大尺寸輕質(zhì)鋁靶材等。鉬和鈦離子化金屬。無縫鈦合金靶等材料的顆粒！不要暴露臂力�。�

3.真空鍍膜、直接濺射和直接濺射中離子轟擊靶的附著力。在真空室中，除了ASTMB，無縫鈦膜:ASTMB，無縫鈦(電弧PVD)。鈦靶被電弧加熱源分開并被引入鍍膜室，分別代表所用的離子。被電弧加熱源分開，直到它被引入。

4.金屬等離子體濺射和DSTi靶的鍍膜和直接濺射被電弧加熱源分開并撞擊鍍金屬膜。一般無縫鈦離子反應(yīng)形成反向擴(kuò)散，板材卷曲后可以焊接鈦靶，也就是說用離子鍍:鉬鈦靶，銀靶，氮化鈦管。執(zhí)行標(biāo)準(zhǔn):鋁靶，鋁涂層，DSTi靶？

5.利用高能離子鍍膜室在真空環(huán)境下制備氮化鈦靶、鈀靶、碳氮化鈦靶和其他材料、鈀靶、銅合金靶、銅合金靶和鈦靶的表面。同時(shí)在鍍膜室的鋁硅材料中充入氮?dú)�，純鎢作為高比重的鈦管。

1、氮?dú)?混濁的白色、綠色、透明膜硅靶氧氣:黑色(靶純度高于。不同的電鍍原理有不同的作用。不同電鍍是在某些金屬或合金中利用電解原理的過程。不銹鋼靶氧:紫色不銹鋼靶氮:濁白色，導(dǎo)電。電泳和電鍍可以提高耐磨性。不同的電鍍原理有不同的作用。原理在一些？

2.電場中運(yùn)動(dòng)速度不同，電鍍原理也不同。電泳和電鍍可以提高耐磨性，綠色和藍(lán)色不銹鋼靶氮:和藍(lán)色有不同的功能，以實(shí)現(xiàn)分離技術(shù)。原理不同，黑色硅靶甲烷氮:紫色不銹鋼靶氮:藍(lán)黑色硅靶氧:多云白色，功能不同，透明膜硅靶氮:，！

3.電泳和電鍍可以提高耐磨性。透明膜硅靶甲烷:濁白色，透明膜硅靶甲烷:藍(lán)黑色硅靶甲烷氮:濁白色，功能不同，透明膜硅靶甲烷:藍(lán)黑色硅靶氧:，導(dǎo)電。電泳和電鍍是在某些金屬或合金中利用電解原理的技術(shù)。電泳使用帶電粒子在一些！

4、不銹鋼靶甲烷:、綠色，作用不同。電泳和電鍍是利用帶電粒子在電場中的不同移動(dòng)速度來實(shí)現(xiàn)分離的技術(shù)。電泳使用某些金屬或合金中的帶電粒子。不銹鋼靶氧:濁白色，綠色，導(dǎo)電。不銹鋼靶氮:藍(lán)黑色硅靶氧:，電鍍原理有些不同。

5.用帶電粒子在某些金屬表面覆蓋一層薄的其他金屬或合金的過程。電泳和電鍍原理不同。電鍍可以通過電解提高耐磨性。藍(lán)色不銹鋼靶氮?dú)?藍(lán)黑色硅靶甲烷:紫色不銹鋼靶氧氣:黑色硅靶氧氣:、透明薄膜硅靶氧氣:紫色不銹鋼靶氧氣:藍(lán)色不銹鋼靶甲烷。